Электрические свойства Gе и Si, деформированных при низких температурах
Journal: Збірник наукових праць фізико-математичного факультету ДДПУ (Vol.-, No. 6)Publication Date: 2016-04-21
Authors : Надточий В.А. Нечволод Н.К.;
Page : 56-60
Keywords : механические напряжения; деформация; германий; кремний; дислокации; релаксация напряжений; p-n-переход;
Abstract
Структурные исследования ковалентных полупроводников, деформированных при низких температурах, показали важную роль вакансий в пластичности приповерхностных слоев. Дислокационные петли, возникающие под действием деформации в области объемного заряда p-n-перехода кремния, значительно снижают время жизни неравновесных носителей заряда, инжектируемых в базу. На вольтамперных характеристиках p-n-перехода с дислокациями обнаруживается резкое возрастание обратного тока
Other Latest Articles
- Влияние низкотемпературной микропластической деформации на электрические свойства кремниевых p-n-переходов
- Shotgun Label-Free Proteomic Analyses of the Oyster Parasite Perkinsus Marinus
- Перерахування двокольорових хордових O-діаграм роду 1, якi мають один чорний (або сірий) цикл, відносно дії циклічної та діедральної груп
- Скінченні ланцюгові гаусові дроби
- Наближення потрійними сумами Фейєра
Last modified: 2018-02-10 21:14:45