PELAPISAN PERMUKAAN BAJA TAHAN KARAT AISI 304 DENGAN KHROM OKSIDA MENGGUNAKAN METODA SPUTTERING
Journal: Urania Jurnal Ilmiah Daur Bahan Bakar Nuklir (Vol.25, No. 2)Publication Date: 2019-06-30
Authors : Sungkono Sungkono Jan Setiawan Isfandi isfandi Ikhwanul Azis;
Page : 71-80
Keywords : Karakterisasi; lapisan permukaan; bahan struktur; SS 304; mikrostruktur; kekerasan; senyawa lapisan.;
Abstract
PELAPISAN PERMUKAAN BAJA TAHAN KARAT AISI 304 DENGAN KHROM OKSIDA MENGGUNAKAN METODE SPUTTERING. Baja tahan karat digunakan sebagai bahan struktur reaktor daya tipe LWR, AGR dan LMFBR. Permasalahan bahan struktur yang timbul adalah ketahanan korosi rendah dan swelling dalam lingkungan iradiasi tinggi. Salah satu cara yang digunakan adalah melapisi permukaan kelongsong baja tahan karat dengan khrom oksida. Tujuan penelitian adalah mendapatkan karakter mikrostruktur, kekerasan mikro, dan senyawa yang terbentuk pada lapisan permukaan baja tahan karat AISI 304. Metode yang digunakan adalah pelapisan permukaan SS 304 dengan metode DC-sputtering. Proses pelapisan menggunakan bahan pelapis berupa target khrom, argon sebagai gas sputter, yang didoping gas oksigen dengan konsentrasi bervariasi dari 0 – 50 %volume, arus 10 – 20 mA, dan waktu 1 - 3 jam. Karakterisasi lapisan meliputi pengamatan mikrostruktur menggunakan mikroskop optik, kekerasan dengan microhardness Vickers tester, dan senyawa dalam lapisan dengan X-ray difractometer. Hasil penelitian menunjukkan bahwa mikrostruktur base metal tersusun dari fasa austenit dan endapan karbida, antarmuka logam-lapisan terlihat jelas, serta lapisan kompak dan homogen dengan ketebalan cenderung naik dalam rentang 0 – 30 %volume, menurun pada 30 – 40 %volume, dan bertambah tebal pada 40 – 50 %volume gas O2 Kekerasan lapisan bertambah tinggi hingga doping gas oksigen 30 %volume, kemudian menurun hingga 50 %volume gas O2. Pada konsentrasi dopan tetap dengan arus 10 – 20 mA dan waktu proses 1 – 3 jam diketahui kekerasan lapisan permukaan SS 304 bertambah tinggi seiring dengan bertambah besarnya arus dan waktu sputtering. Pada konsentrasi dopan 30 %volume O2, arus 10 mA dan waktu 2 jam, lapisan yang terbentuk mengandung CrO2
Other Latest Articles
- The relationship of plasma cortisol level with processing speed and working memory in methamphetamine users
- Right ventricular myocardial infarction: The electrocardiography (ECG) pattern
- Chronic urticaria associated with malignancies: A review article
- Comparison of the quality of life, psychological well-being, and emotional self-regulation among nurse with non-nurse women in Imam Khomeini hospital, Kuhdasht City, Iran
- The men as victims of domestic violence, and the role of demographic variables: A cross-sectional study
Last modified: 2019-09-27 10:00:06